플라즈마 화학기상증착기 [Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition] — 한국과학기술원 2026년 11월 발주계획 (진공증착기)

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발주계획 정보

발주예정

2026년 11월

사업금액(합계)

11.6억원 (1,155,500,000원)

달러 환산액

$863,602

계약방법

일반경쟁

조달방법

자체조달

품명

진공증착기

공사기간

202611

관할구분

기타기관

총괄기관

과학기술정보통신부

담당

구매팀 · 양시정

연락처

042-350-2334

사전규격번호

R26BD00297804

첨부파일 1

PDF 영문규격서_ICPCVD_PECVD.pdf 82KB

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규격 · 수량 · 비고

수량 (단위: set)

Substrate size

200 mm (8")

ICP source

≥ 2 kW @ 2 MHz

용도

정밀 양자소자용 저손상·저온 박막 증착 및 광집적회로 공정

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