반도체 MPL용 Blank Mask 검사 시스템[Blank Mask Inspection System for Semiconductor Multi Patterning Lithography] — 에스케이씨 주식회사 2020년 06월 발주계획 (반도체검사기)

아직 공고 전입니다. 발주예정 시기는 2020년 6월 이며,
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발주예정

2020년 6월

사업금액(합계)

48억원 (4,800,000,000원)

달러 환산액

$3,966,942

계약방법

일반경쟁

조달방법

중앙조달

사업유형

신규

품명

반도체검사기

공사기간

202011

관할구분

기타기관

계획 변경일

2020-03-31

총괄기관

한국산업기술평가관리원

담당

SKC Blank Mask 추진실 · 이형주

연락처

***-****-****

수량 (단위: ea)

Defect 검사 감도 (Sensitivity @PSL on Quartz)

50nm 이하 검사 가능

검사시간(Loading/Unloading 포함 1회 검사시, 검사영역: 146mmX146mm)

≤8min

Defect Review 기능

보유

Auto Defect Classification Sensitivity

85% (Pit & Bump 구분 가능)

Particle Adders: 1회 검사(Loading/Unloading 포함) 시

≤ 0.1 Particles (≥ 50nm PSL Size)

용도

Blank Mask Defect 검사/판별을 위한 검사 시스템

비고

[email protected]

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